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   采用DMD的3D微型光成型機向“納米”級分辨率發(fā)展

 

  

 

      [投影之窗消息]  日前,JSR開始研究D-MEC三維光成型機的分辨率到數(shù)百nm級,其于2004年開始銷售具有μm級分辨率的光成型機,以開拓新應用領域中的材料市場。盡管該裝置的原理與使用紫外線硬化樹脂的三維成型機相同,但由于加工分辨率為μm級,因此可加工MEMS元件及微小裝置。
  

    為了提高分辨率,JSR考慮改變光學系統(tǒng)。微型成型機需要涂布紫外線硬化樹脂,使其變成數(shù)μm厚的薄層,以1.7μm的平面方向分辨率對該層進行紫外光照射,便可形成任何形狀。反復操作該工序并重疊薄層,便能形成立體形狀。這時,該公司的裝置可使用DMD(數(shù)字微鏡器件)芯片進行紫外光照射。DMD芯片有1024×768個13.7μm見方的微鏡,可利用透鏡聚集其反射光。1.7μm的水平方向分解能取決于該透鏡的縮小率。用透鏡聚光時,可相應地提高分辨率。
  

 


 
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